薄膜厚度計原理
?膜厚計的測量方法多種多樣，根據測量對象選擇合適的設備。以下五種方法具有代表性。
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1. 光譜干涉膜厚儀
該薄膜厚度計利用了光的干涉原理。當光入射到被測物體上時，它會在薄膜的正面和背面反射。這兩束反射光之間存在相位差，該相位差的大小取決于薄膜的厚度。當兩束光以相同相位重疊時，它們會發生相長干涉；當兩束光以相反相位重疊時，它們會發生相消干涉。因此，通過測量這種干涉差，就可以測量厚度。
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2.紅外膜厚儀
該膜厚計利用了被測物體對紅外光的吸收特性。當紅外光照射到被測物體上時，根據被測物體的材質和厚度，特定波長的紅外光會被吸收。利用這一特性，根據透射光或反射光的分光光譜來測量膜厚。如果預先測量被測材料的吸收率與膜厚之間的關系，就可以計算出被測物體的膜厚。
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3.電磁涂層測厚儀
這是一種利用磁通密度變化的涂層測厚儀。該測量方法適用于測量對象形成于磁性金屬表面的情況，利用磁鐵單獨靠近金屬時與磁鐵靠近放置在金屬上的測量對象時磁通密度的差異。但是，這種方法僅適用于測量對象與金屬接觸，而非金屬本身的情況。
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4.渦流膜厚儀
渦流涂層測厚儀利用線圈產生的磁通量變化來測量物體的厚度。通電線圈周圍會產生磁通量，當線圈靠近物體時，磁通量會根據物體的厚度而變化。通過檢測這種磁通量的變化來測量物體的厚度。
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5.超聲波涂層測厚儀
超聲波膜厚計利用超聲波的反射原理。當超聲波從被測物體表面發射時，它會穿過物體內部，并在背面反射。根據反射所需的時間來測量厚度。
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例如，在測量玻璃等透明薄膜的厚度時，會使用利用寬帶光的光譜干涉型膜厚計，或利用紅外光的紅外膜厚計。另一方面，這些膜厚計不能用于金屬等不透光的材料。
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測量金屬鍍膜薄層時，通常使用利用磁通變化的電磁式膜厚計或利用渦電流的渦流式膜厚計。此外，當難以接觸測量對象時，也會使用超聲波膜厚計等非接觸式膜厚計。